전자 반도체 수처리 시스템 - 당신의 성공의 열쇠!

✅ 전자 제품 반도체 산업에 수처리 장비가 필요한 이유는 무엇입니까?

전자 반도체 제품의 생산 공정은 수질에 대한 요구 사항이 매우 높습니다. 반도체 재료의 제조에는 정확한 화학 반응 및 물리 치료 과정이 포함됩니다. 물에 불순물, 이온 또는 미생물이있는 경우, 제품을 오염시키고 성능, 안정성 및 신뢰성에 영향을 미치는 것이 매우 쉽습니다. 따라서 생산수의 순도를 보장하기 위해 수처리 장비를 통해 물의 다양한 불순물을 제거해야합니다.

예를 들어 WTEYA UltraPure Water 장비를 섭취하면 일련의 높은 높은 수준의 불순물, 이온 및 미생물을 효과적으로 제거합니다.-정밀하고 높은-사전과 같은 기술 처리 프로세스-처리 흡착 여과, 역 삼투 정제 및 수지 이온 교환, 생산 된 초음파수가 매우 높은 저항력을 갖도록합니다. 이러한 유형의 초음파수는 세정, 에칭, 박막 증착 및 반도체 제조의 도핑과 같은 주요 공정에서 널리 사용되며 제품 품질 및 성능을 보장하는 핵심 요소입니다.

✅ 전자 제품 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 수처리 장비 및 응용 시나리오

1. 멀티-메디아/활성화 된 탄소 여과 시스템

>> 응용 프로그램 링크 :

전처리 단계로서, 멀티-미디어 필터는 다양한 필터 매체의 조합을 통해 현탁 된 물질, 콜로이드 및 입자상 물질을 효과적으로 제거하고 후속 처리 장비를 보호하며 전반적인 처리 효과를 향상시킵니다. 활성탄 필터는 물의 유기물, 냄새, 안료 및 잔류 염소를 흡수하는 데 사용되며, 수질의 순도를 더욱 향상시키고 후속 초고 수 시스템의 안정적인 작동을 보장합니다.

>> 기술 원리 :

멀티-배지 여과는 주로 다른 입자 크기의 입자의 깊은 여과를 달성하기 위해 필터 층의 물리적 차단 및 흡착에 의존한다.

거대한 특이 적 표면적 및 복잡한 기공 구조에 기초하여, 활성화 된 탄소 여과는 유기 오염 물질 및 냄새에 대한 강한 흡착 능력을 가지며 물에서 잔류 염소를 제거 할 수도있다.

>> 성취 효과 :

대부분의 불순물을 효과적으로 제거하고 높이 제공하십시오-역삼 투 및 이온 교환과 같은 깊은 처리를위한 고품질의 수원으로 인해 초소 수질의 품질을 향상시키고 다운 스트림 장비를 보호합니다.

2. 한외 여과 시스템

>> 응용 프로그램 링크 :

사전에 사용됩니다-웨이퍼 표면이 깨끗하고 오염되는지 확인하기 위해 세척 과정에서 초음파수 처리-무료.

공정 액체의 정제 (산, 알칼리 및 유기 용매와 같은) 미립자 불순물을 제거하고 액체 순도를 보장합니다.

장비 냉각수 시스템의 불순물을 필터 장비 손상을 방지합니다.

>> 기술 원리 :

한외 여과는 압력입니다-특정 기공 크기의 반투과성 멤브레인을 사용하는 구동 멤브레인 분리 기술 (0.002~0.2μ중) 물의 콜로이드, 입자, 단백질 및 미생물과 같은 불순물을 여과하여 고순도의 생산 된 물을 보장합니다.

>> 성취 효과 :

높이 제공하십시오-순도는 물을 공정하여 제품 품질을 보장합니다.

장비를 보호하고 서비스 수명을 연장하십시오.

생산 효율성을 향상시키고 수질 문제로 인한 중단을 줄입니다.

폐수 처리의 어려움을 줄이고 녹색 및 지속 가능한 개발을 돕습니다.

3. 역삼 투 (로) 막 시스템

>> 애플리케이션:

초소 물 준비 과정에서 핵심 링크로 사용되며, NG가 낮음을 제공합니다.-전도도, 높은-웨이퍼 및 칩 세정을위한 순도 수원, 수질을위한 반도체 제조의 엄격한 요구 사항을 충족합니다.

>> 기술 원리 :

역 삼투압은 고압을 사용하여 반투과성 막을 통해 물을 밀어서 용해 된 염, 유기물 및 중금속과 같은 불순물을 효과적으로 제거하고 물 분자 만 통과하여 물 정제를 달성 할 수있게합니다.

>> 성취 효과 :

다양한 오염 물질을 효율적으로 제거하고 높은 생산하십시오-순도적인 물.

물 생산의 품질을 안정화시키고 원수 변동의 영향을 줄입니다.

제품 수익률을 향상시키고 비용을 줄이며 환경 적 이점을 향상시킵니다.

4. EDI 시스템 (전극화 시스템)

>> 애플리케이션:

게시물에 사용됩니다-청소, 공정 액체의 제조에 적합한 초소형 물 제제 가공, 물에서 이온을 제거하는 데 매우 높은 효율이 있습니다.

>> 기술 원리 :

EDI는 이온 교환 막과 DC 전기장을 결합하여 화학 재생 제의 필요없이 이온 이동 및 제거를 달성합니다.-전기를 통해 이온 수지를 재생성하여 지속적으로 그리고 안정적으로 높은 생산-순도적인 물.

>> 성취 효과 :

지속적이고 안정적으로 생산합니다 ≥15mΩ 초소 수;

화학 물질, 녹색 및 환경 친화적 인 화학 물질의 사용을 줄입니다.

간단한 작동 및 유지 보수, 저에너지 소비.

5. 혼합 침대 시스템을 연마합니다

>> 응용 프로그램 링크 :

Ultrapure Water System의 마지막 체크 포인트로서, 주로 칩 청소 및 반도체 재료 준비와 같은 주요 링크에 사용되어 물 순도가 한계 표준에 도달 할 수 있도록합니다.

>> 기술 원리 :

연마 혼합 베드는 양이온 및 음이온 교환 수지의 혼합 충전 방법을 사용하여 수지의 이온 교환 효과를 통해 물의 잔류 이온 및 유기 불순물을 제거하여 최종 높이를 달성합니다.-순도 수질.

>> 성취 효과 :

저항력이 가장 높은 초음파를 제공하십시오.

칩 신뢰성과 수율을 향상시킵니다.

장비 유지 보수 빈도를 줄이고 생산 연속성을 향상시킵니다.

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하나로서-전자 반도체 폐수 처리 솔루션의 턴키 서비스 제공 업체 중지 WTEYA는 "전처리"의 조합을 채택합니다. + 고급 막 분리 + EDI 시스템 + 산업의 복잡하고 변하기 쉬운 수질에 대한 효율적인 폐수 처리를 달성하고 재사용을위한 혼합 베드 "기술을 연마하여 기업은 자원 재활용 효율성을 향상시키고 경제적 이점을 향상 시키며 녹색과 낮음을 촉진 할 수 있도록 도와줍니다.-산업의 탄소 개발.

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